有關(guān)光敏墊方面的知識，北京刻章還是第一次提到。什么樣好用呢，看看正文中的解釋吧。
　　在設(shè)計光敏印墊機械壓緊裝置時，北京刻章建議要壓力均勻且壓力足夠，并且能夠適應(yīng)不同厚度的光敏墊。
　　光敏印墊在曝光時不僅受到足夠的強光照射，印墊本身的厚度還需要被壓縮到一定的尺寸，這樣才能夠有較好的曝光效果。
　　北京刻章告訴你，光敏墊的厚度一般在3毫米-7毫米之間，壓緊時一般需要將其厚度壓縮至原厚度的一半左右，如7毫米的印墊需壓縮至3-4毫米左右才能保證有較好的曝光效果。
　　同時北京刻章認為設(shè)計一個外形美觀，適用方便、成本合適的壓緊裝置對提高光敏印章的制作質(zhì)量是至關(guān)重要的，所以光敏印墊小于7毫米做出來的印墊也是不太好。